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DRC LVS

又名 DRC · LVS · Design Rule Check · Layout vs Schematic · 设计规则检查

设计规则检查 — 验证版图（layout）是否符合晶圆厂的工艺设计规则

第二层 · 芯片系统
首次提出1980s关键参与方Siemens EDA, Synopsys, 华大九天

DRC / LVS（物理验证两大核心）

EDA 物理验证的两大核心环节，是芯片流片前的"最后一公里"质量门（据 EDA电子设计自动化）。

DRC（Design Rule Check）

  • 最小线宽、最小间距、最小覆盖
  • 不同金属层之间的设计约束
  • 任何违反规则的图形都会被标出

LVS（Layout vs Schematic）

版图对照 — 把版图（physical layout）与电路图（schematic）逐元件、逐网表比对，确认版图与设计完全一致。

全球金标准

国产攻坚

  • 华大九天 — 数字 / 模拟物理验证工具持续迭代
  • 奥卡思微 — 物理验证细分玩家
  • 物理验证是国产 EDA 最难突破的环节之一（高 PPA × 高准确度 × 高速度三角约束）
所属EDA电子设计自动化
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核心逻辑芯片

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